Pusvadītāju augstas{0}}tīrības gāzes gaisa atdalīšanas iekārta

Galvenā tehnoloģija

Īpaši tīra{0}}priekšapstrāde:"Trīs{0}}pakāpju filtrēšana + dubultā adsorbcija + katalītiskā deoksigenācija" — ULPA filtri un augstas -temperatūras molekulārie sieti noņem ūdeni (rasas punkts, mazāks par -90 grādiem vai vienāds ar to) un CO₂ (mazāk par vai vienāds ar 0,01 ppm), un palādija vai 1 ppm līdz 0,0 katalizatoram. destilācijas pamatu ielikšana.
 

Kriogēnās destilācijas attīrīšana:"Vairāk{0}}torņu kaskāde + augstas-efektivitātes iesaiņojums" — galvenajā tornī tiek izmantots 316 l rievotais iepakojums sākotnējai atdalīšanai līdz 5 N tīrības pakāpei. Slāpekļa/argona attīrīšanas tornis tiek pievienots, lai sasniegtu galīgo slāpekļa tīrību 7N un argona tīrību 7,5N, noņemot piemaisījumu pēdas (metāns Mazāks vai vienāds ar 0,05 ppb).

 

Ultra{0}}tīra pēc-apstrāde:Ekskluzīva attīrīšana, lai novērstu sekundāro piesārņojumu – PTFE filtri filtrē daļiņas, kas ir lielākas vai vienādas ar 0,01 μm, jonu apmaiņas kolonnas samazina metāla jonus, un aktīvās ogles tvertnes kontrolē GOS līdz 0,05 ppb vai mazākam.
 

Stabila piegādes kontrole:Augstas-precizitātes slēgtas-cilpas sistēma — pusvadītāju-pakāpes MFC, 316L EP-pakāpes cauruļvadi (Ra Mazāks vai vienāds ar 0,2 μm), pilnībā automatizēta metināšana (kvalificētais ātrums 100%), kas atbilst SEMI F30.

 

darba princips

 

 

 

Daudzpakāpju kompozīta pirmapstrādes princips

Trīspakāpju savienojums "filtrēšana + adsorbcija + katalīze": ULPA filtri un augstas -temperatūras molekulārie sieti noņem ūdeni (rasas punkts, mazāks par -90 grādiem vai vienāds ar to) un CO₂ (mazāks vai vienāds ar 0,01 ppm), savukārt palādija katalizatori, kas vienāds ar 1 ppm, noņem skābekli uz Leslay. pamats augstai tīrībai.

 

 

Dziļas-aukstās destilācijas un daļējas atdalīšanas princips

Izmantojot viršanas temperatūras atšķirības starp skābekli, slāpekli un argonu, attīrīšanai sērijveidā tiek izmantotas vairākas kolonnas: galvenā kolonna ar 316L iepakojumu sasniedz sākotnējo atdalīšanu līdz 5N; slāpekļa/argona attīrīšanas kolonna (-196 grādi) noņem piemaisījumu pēdas, galu galā sasniedzot slāpekļa koncentrāciju 7N un argona koncentrāciju 7,5N (metāns Mazāks vai vienāds ar 0,05 ppb).

 

 

Ultra{0}}tīrs pēcapstrādes-piesārņojuma novēršanas princips

Patentēta attīrīšana novērš sekundāro piesārņojumu: PTFE filtri, jonu apmaiņas kolonnas samazina metāla jonus (mazāk par vai vienāds ar 0,01 ppb), un aktīvās ogles kannas kontrolē GOS līdz 0,05 ppb vai mazākam, nodrošinot gāzes tīrību.

 

 

Augstas-precizitātes slēgtas-cilpas pārraides vadības princips

"Augstas-precizitātes kontrole + tīra cauruļvadu sistēma": pusvadītāju-pakāpes MFC un 316L EP-pakāpes cauruļvadi (Ra mazāks par vai vienāds ar 0,2 μm) ir pilnībā automātiski metināti, lai nodrošinātu stabilu transportēšanu un nesamazinātu tīrību.

 

1. Vai šīs iekārtas radīto gāzes tīrību var pielāgot dažādu pusvadītāju procesu prasībām?

Mēs varam pielāgot tīrības risinājumus, pamatojoties uz īpašām procesa prasībām. Pielāgojot attīrīšanas torņa procesu un pēc-apstrādes moduļus, mēs varam sasniegt stabilu jaudu, kas atbilst 14 nm procesu prasībām. Augstas-tīrības gāzes progresīviem procesiem, tostarp tālāk norādītajiem, var optimizēt turpmākiem procesa jauninājumiem, neprasot pilnīgu aprīkojuma nomaiņu.
 

2. Kā mēs varam novērst sekundāro gāzes piesārņojumu iekārtas darbības laikā? Pusvadītāju ražošanai ir nepieciešams ārkārtīgi augsts tīrības līmenis.

Tas tiek nodrošināts divos veidos: pirmkārt, īpaša -tīra pēc-apstrādes sistēma noņem sīkas daļiņas un metāla jonus, izmantojot tādus procesus kā ultrafiltrācija un jonu apmaiņa. Otrkārt, piegādes procesā tiek izmantoti specializēti cauruļvadu materiāli un optimizētas metināšanas metodes, lai samazinātu piemaisījumu adsorbciju uz cauruļvadu sienām, tādējādi novēršot sekundāro gāzes piesārņojumu visā procesā.
 

3. Iekārtas darbības laikā gāzes plūsma un spiediena svārstības var ietekmēt pusvadītāju apstrādi. Kā mēs varam nodrošināt stabilus parametrus?

Augstas -precīzas slēgtas-cilpas vadības sistēma, kas apvienota ar profesionālu plūsmas kontrolieri reāllaika-parametru regulēšanai un optimizētai cauruļvadu konstrukcijai, efektīvi kontrolē plūsmas un spiediena svārstības, nodrošinot stabilus gāzes padeves parametrus, kas atbilst pusvadītāju procesu precizitātes prasībām.
 

4. Vai iekārtu apkope ir sarežģīta? Vai apkope ietekmēs pusvadītāju ražošanas līnijas nepārtrauktu darbību?

Vienkāršotais apkopes process ļauj savlaicīgi brīdināt par galveno komponentu apkopi, izmantojot tiešsaistes uzraudzību. Sistēma atbalsta arī "bezsaistes sagatavi + tiešsaistes savienojumu". Izmantojot visaptverošu apkopes modeli, kritiskai apkopei ir nepieciešams tikai īss dīkstāves laiks, un tiks izstrādāts pagaidu gāzes piegādes plāns, lai samazinātu ražošanas līnijas darbības traucējumus.

5. Ja pusvadītāju fab nākotnē palielinās jaudu, vai esošo aprīkojumu var paplašināt? Vai šī paplašināšana ir sarežģīta?

Iekārtai ir iebūvēti{0}}paplašināšanas porti. Jaudas palielināšanai nepieciešams tikai pievienot atbilstošos rafinēšanas moduļus un transportēšanas sastāvdaļas, neizjaucot serdes destilācijas sistēmu. Pirms paplašināšanas tiek veikti detalizēti procesa aprēķini un rūpnieciskā ražošana, kas nodrošina īsu-uz vietas būvniecības periodu un minimālu sarežģītību, ļaujot ātri pielāgoties jaudas pieauguma vajadzībām.

Populāri tagi: pusvadītāju augstas-tīrības gāzes gaisa atdalīšanas iekārta, Ķīnas pusvadītāju augstas-tīrības gāzes gaisa atdalīšanas iekārta, piegādātāji, rūpnīca